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  • 1603
    2018

    具有集居数反转状态的石英晶振为激光工作物质

    假设在石英晶振,对应于能态E2的集居数为N2对应于能态E1的集居数为N1,一个平面波对应的光子通量正沿着物质的轴向Z传播。由于受激吸收和受激辐射而产生的光子通冕的改变为:dF=oF(N2-N1)dZ

    它表示:如果N2>N1,dF/dZ>0。石英晶振起放大作用。如果N2<N1, dF/dz<0,石英晶振起衰减作用。在热平衡条件下,各能态的集居数是按玻尔兹曼分布,N2<N1所以,晶振总是以吸收为主。如果在特定情况下N2>N1。该石头晶体的受激辐射作用大于受激吸收作用,该物质就可以产生更多的光子通量而作为光放大器。这种特殊状态称之集居数反转,指与通常状态的集居数分布不同。

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  • 1603
    2018

    石英晶振激光频率微调技术
    上一篇讲完了晶振的符号以及它的等效电路,本章节就来讲讲主要的石英晶振激光频率微调技术的知识要求,通过计算公式,理论和科学家们的实验结果来阐述.这项技艺的最终目的是为了在同样的时间里,在加大生产数量的同时,保障石英晶振的质量,稳定性和优良的电气特性.
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  • 1603
    2018

    目前晶振整体状态发展总结(二)

    按照业内的通用分类,压电晶体大致可分为:石英晶振,陶瓷晶振两种。其中石英晶振中又有许多的小分类,如:无源晶体,有源晶振,圆柱晶振,贴片晶振等等。

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  • 1603
    2018

    贴片晶振符号和等效电路
    晶片振动时因摩擦而造成的损耗用R来等效,它的数值约为100g,由于晶片的等效电感很大,而C很小,R也小,因此回路的品质因数Q很大,可达1000~10000.加上晶片本身的谐振频率基本上只与晶片的切割方向,几何形状,尺寸有关,而且可以做得精确,因此利用石英晶振组成的谐振电路可获得很高的频率稳定度.
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  • 1603
    2018

    阐述石英晶振的原理与结构
      若在石英晶振的两个电极上加一电场,晶片就会产生机械变形。反之,若在晶片的两侧施加机械压力,则在晶片相应的方向上将产生电场,这种物理现象称为压电效应。如果在晶片的两极上加交变电压,晶片就会产生机械振动,同时晶片的机械振动又会产生交变电场。
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  • 1503
    2018

    目前晶振整体状态发展总结(一)

    晶振制造行业的发展水平的因素不仅是自身的发展,同事与整个电子信息产业链中的地位与作用有着密切关系。就石英晶振制造业在整个电子信息产业链中所占据的地位和作用而言,在整个产业链中居于重要的地位,起到带动整个产业发展的作用

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  • 1403
    2018

    大真空晶振最小体积温补振荡器特点及技术指示

    电子科技发展快速的今天,不仅国产晶振厂家品牌如雨后春笋不断涌出,在我国晶振市场活跃的进口晶振厂家品牌也数不胜数,就那些叫得上号的晶振品牌就有:日本的KDS晶振、爱普生晶振、精工晶振、西铁城晶振、京瓷晶振、NDK晶振、村田晶振,美国的西迪斯CTS晶振、宝岛台产晶振中的晶技TXC晶振、鸿星晶振、泰艺晶振等,这些晶振品牌中没有谁家不生产温补晶振的,并且一些进口晶振生产厂家还是主要以事业晶体振荡器出名的。

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  • 1403
    2018

    石英晶振激光刻蚀工艺的研究结论
    关于石英晶振激光刻蚀频率微调技术的研究讨论已经进行了一部分,相信大家都有了一定的了解和认识,也更明白晶振应用的意义有多么重大.本章节的探讨也进入的一个尾声,下面是CEOB2B晶振平台对于章节的一些总结,以及评价,希望可以帮到各大企业和生产厂家的技术和工程们.
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  • 1403
    2018

    揭密石英晶振离子束刻蚀频率微调技术的优缺点
      针对上节提出的国内外石英晶振频率微调面临的几大难题,结合力所能及的研究条件,本论文主要对石英晶振的激光频率微调技术的以下几个部分内容进行研究:频率微调的可行性研究、激光刻蚀机理的研究、激光刻蚀工艺的研究、激光刻蚀系统的研究、激光刻蚀扩展性的研究。
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  • 1403
    2018

    贴片晶振离子束刻蚀频率微调机理以及应用
    离子束刻蚀频率微调,与在国内工业生产中现在普遍应用的两种频率微调方法:蒸发频率微调技术和溅射频率微调技术,完全不同.蒸发频率微调技术和溅射频率微调技术是以增加膜层厚度的方法来改变SMD晶振晶片的总厚度,进而改变晶片总质量,最终改变晶片谐振频率,即所谓的“加”的方法;而离子束刻蚀频率微调采用的是减薄银层的方法来改变晶片的总厚度,进而改变晶片总质量,最终改变晶片谐振频率,即所谓的“减”的方法.
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  • 1403
    2018

    讲述石英晶振磁控溅射频率微调技术应用及优缺点分析

     在前面的文章中我们有提到关于石英晶振磁控溅射技术原理磁控溅射是在真空条件下导入一定压力的惰性气体(Ar),阴阳极间形成一定强度的电场,并引入强磁场施加影响,使被阳离子轰击而溅射出的靶材金属粒子加速射向欲镀覆基片表面。那么接下来CEOB2B晶振平台将要说的是石英晶振磁控溅射频率微调技术应用及优缺点分析。

    在真空等离子体气氛中,氩离子轰击银靶,溅射出高能银粒子射向晶振晶片表面,从而增加表面银电极的厚度,进而改变石英晶体谐振器的谐振频率。其装置示意图如图1.3所示。与蒸发频率微调法类似,磁控溅射频率微调在对石英晶体谐振器进行频率微调时,也分为粗调和细调两步进行。

    1.3溅射偏了微调装置示意图

    石英晶振磁控溅射频率微调的优、缺点

    优点:

    (1)与蒸发频率微调法相比,溅射离子比蒸发原子或分子的平均能量大数十倍,提高了表面原子迁移率及体扩散,使膜层性能及附着力增强

    缺点:

    (1)晶振磁控溅射镀覆设备价格昂贵,设备操作、维护复杂。

    (2)对于靶材——银的利用率低,最高只能达到50%。

    (3)与石英贴片晶振蒸发频率微调法类似,粗调后的膜面已暴露过大气,易被氧化,并且使得表面落上灰尘、杂质颗粒,而细调新镀膜层又较薄,导致膜层结合力差易产生脱焊、固熔断线问题。这同样也是磁控溅射频率微调技术的致命缺点。

    (4)由于离子对阴极靶材的轰击,使靶材表面溅射出二次电子,这些电子经等离子体后,易堆积在阳极表面,使表面形成电荷积累,无法再继续沉积。

    可见,以上两种方法都无法满足大规模工业生产和激烈的市场竞争的需要更能适应生产需求的新型工艺呼之欲出。

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  • 1303
    2018

    石英晶振蒸发频率微调技术的优缺点对比

    在国内外针对石英晶振生产工艺和理论研究做出了很多验证,主要有三种技术,最早出现的是蒸发沉积和磁控溅射沉积表面电极以增加晶振质量,进而微调晶振的谐振频率。随着研究的不断进展,自20世纪80年代中期开始出现关于离子束刻蚀石英晶振频率微调技术的研究.下面CEOB2B晶振平台所要讲的是有关石英晶振蒸发频率微调技术的优缺点对比.

    优点:

    (1)设备简单,操作容易;(2)不会造成频率漂移,对实时测量影响较小。

    缺点:

    (1)镀层与基片的结合力差(2)坩埚容积小,不可能长时间、连续工作;(3)材料浪费,由于银的价格昂贵,而每次蒸发到基片表面上的材料不足30%,因而造成很大的浪费.

    (4)初次镀银电极后的石英贴片晶振膜面已暴露过大气,使得表面落上灰尘、杂质颗粒,再加上银在高温时易被氧化,而微调新镀膜层又较溥,导致膜层结合力差, 易产生脱焊、固熔断线问题。这是蒸发沉积法进行频率微调的致命缺点,也是在实际生产中生产率低下的主要因素。膜层示意图如图1.2所示。

    1.2蒸发沉积银层膜系结构示意图

    磁控溅射频率微调技术:溅射技术包括磁控溅射、直流溅射、射频溅射等多种,目前广泛应用于石英晶振频率微调的溅射技术是磁控溅射技术。

    磁控溅射技术原理:磁控溅射是在真空条件下导入一定压力的惰性气体(Ar),阴阳极间形成一定强度的电场,并引入强磁场施加影响,使被阳离子轰击而溅射出的靶材金属粒子加速射向欲镀覆基片表面。

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  • 1303
    2018

    晶振蒸发频率微调技术在本课题中的应用
    可以应用在石英晶振身上的频率微调技术有许多,前面有提到激光刻蚀频率微调技术,而现在要说的蒸发频率微调技术是其中一种,利用图文方式讲解蒸发频率微调技术是如何应用在石英晶体谐振器身上的,也是本次课题的主要内容,相关资料由CEOB2B晶振平台提供.
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  • 1303
    2018

    石英晶振频率元件研究在国内的未来展望以及现状
      第一步制作出与目标频率接近的石技术不尽相同,但其基本流程均可归纳如下:第一步制作出与目标频率接近的石一步结束后吏加接近目标频率;第三步通过改变晶片(包括电极层)的整体质量的方法,来微调石英晶振谐振频率以达到目标频率。
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  • 1303
    2018

    有关晶振激光微加工的特点及其实际应用介绍

    在前面的文章中我们知道激光具有高亮度、高单色性、高相干性、高方向性等四大优点,尤其是它具有极高的功率密度,可达1010-12w/CM2,因而是一种性能优异的加工光源。因此我们通过将激光微加工工艺应用于石英晶振频率微调,并通过理论与实验证明。

    激光微加工和其它微加工方法相比具有明显的优越性,表现为以下几方面:

    (1)加工制作条件较易得到满足:

    尽管电子束“X射线离子束具有更短的波长,在提高分辨率方面有更多的好处,但它们在曝光源掩膜抗蚀剂成像光学系统等方面都存在极大的困难,与此相比,激光有着明显的经济性和现实性。随着新型激光器的发展,它可将加工波长扩展至DUVVUV,分辨率达到亚微米

    (2)功率密度高:

    激光加工的功率密度可达108~109W/cm2,大大缩短了晶振产品加工时间。

    (3)加工对象广泛

    激光微加工可用于多种材料的精密加工,如金属、有机物、无机物、陶瓷等,在加工的过程中可控制激光的切削尝试,这使得利用激光进行高精密切削成为可能。

    目前,“激光微加工的应用领域比较广泛,主要包括以下几方面:

    (1)精密打孔:

    激光精密打孔可对各种材料进行打微孔的加工。目前,激光打孔已广泛应用于金刚石模具、钟表石英,贴片晶振,轴承小孔的加工,它也可用于对陶瓷、橡胶、塑料等非金属材料的精密打孔。

    (2)精密切割:

    激光精密切割的切缝窄,切缝边缘质量高,切割速度快,几乎没有残渣。在切割金属时可采用吹氧工艺使金属表面氧化而增强对激光的吸收能力;在切割非金属时采用吹惰性气体的方法排除熔融物。

    (3)电阻电容的微调:

    激光微调就是用激光束按一定的轨迹在膜片上照射,使膜层达到气化温度而迅速蒸发,减少了电阻膜的导电面积从而达到改变膜片电阻值的目的。电阻微调分薄膜电阻微调和厚膜电阻微调两种。薄膜电阻膜厚为几百埃至几微米,常用镍铬等合金材料,厚膜电阻膜厚为几微米至几十微米。它还可以用于电子线路或石英晶振等电子器件的功能微调,如有源滤波器的中心频率、带宽和增益的微调,运算放大器失调电压的微调等。电阻电容的微调一般采用YAG固体激光器

    (4)精密焊接

    精密焊接加热速度快、焊点小、焊缝窄、热影响区小,因而焊接变形小、精度高且无需真空设备。它能对绝缘体直接焊接、能焊接有色金属及异种金属,它还可进行薄片间的焊接、丝与丝间的对焊及缝焊。激光精密焊接特別适用于微型、精密、排列紧密和热敏焊件。广泛应用于微电子元件如集成电路内外引线的焊接、电子器件管壳封焊、热电偶的焊接、仪表微丝焊接等领域.

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KDS小体积晶振DSX530GA,1C707600CC1B汽车导航专用晶振

KDS小体积晶振DSX530GA,1C707600CC1B汽车导航专用晶振

KDS小体积晶振DSX530GA,1C707600CC1B汽车导航专用晶振日本KDS大真空晶振,进口晶振,DSX530GA是一款小体积尺寸5.0x3.2mm晶振,两脚贴片晶振、厚度1.0mm、1C710000CE1A小体积轻薄型,1C707600CC1B表面贴装水晶振动子,1C736864CC1A石英晶振,石英晶体谐振器,贴片晶振,无铅环保晶振,无源晶振耐热性优异,高精度、高可靠性,支持7MHz至54MHz的低频到广泛的频率,无需防潮包装管理,moisture sensitivity level:level1( IPC/jedec j-STD-033 ),符合AEC-Q200标准,最适合汽车导航,数字视听设备,智能手机晶振,无线网络晶振,蓝牙模块晶振,GPS定位系统,汽车电子晶振,移动通讯晶振,数码电子等多种用途。
KDS低电压晶振,DSA221SDN压控温补晶振,1XXA20000CAA超小型晶振

KDS低电压晶振,DSA221SDN压控温补晶振,1XXA20000CAA超小型晶振

2520mm体积的石英晶体振荡器有源晶振,该产品可驱动2.5V的温补晶振,VC-TCXO压控温补晶振产品,电源电压的低电耗型,编带包装方式,可对应自动高速贴片机自动焊接,及IR回流焊接(无铅对应),为无铅产品,超小型,质地轻.产品被广泛应用到集成电路,程控交换系统,无线发射基站.
KDS大真空晶振DSX211SH,1ZZNAE26000AB0J无线蓝牙模块晶振

KDS大真空晶振DSX211SH,1ZZNAE26000AB0J无线蓝牙模块晶振

KDS大真空晶振DSX211SH,1ZZNAE26000AB0J无线蓝牙模块晶振日本KDS大真空晶振,进口晶振,DSX211SH是一款小体积晶振,外形尺寸2.0x1.6mm四脚贴片晶振,1ZZNAE48000ZZ0R无源晶振,1ZZNAE38400AA0C石英晶振,1ZZNAE38400AA0C贴片晶振,石英晶体谐振器,无铅环保晶振,小型薄型SMD石英振子2016尺寸,厚度0.45mm,具有超小型,轻薄型,耐热性优良,高精度,高可靠性等特点,支持广泛的频率16MHz至60MHz,符合AEC-Q200标准,用途:工业机器,移动通信晶振,无线网络晶振,智能手机晶振,无线蓝牙模块晶振,DVC、DSC、PC等小型设备,可穿戴设备,车载电子,平板电脑,数码电子等应用。
大真空MHz晶振,SMD-49两脚贴片晶振,1AJ240006AEA石英晶体

大真空MHz晶振,SMD-49两脚贴片晶振,1AJ240006AEA石英晶体

小型贴片石英晶振主要采用了,先进的晶片的抛光工艺技术,是晶体行业中石英晶片研磨技术中表面处理的最高技术,最终使晶片表面更光洁,平行度及平面度更好,大大的降低谐振电阻,使精度得到了很大的提升。改变了传统的生产工艺,使产品在各项参数得到了很大的改良,外观尺寸具有薄型表面贴片型石英晶体谐振器,特别适用于有小型化要求的市场领域,比如智能手机,无线蓝牙,平板电脑等电子数码产品
大真空2520mm晶振,DSX221SH小体积晶振,1ZN326000AB0A通信设备晶振

大真空2520mm晶振,DSX221SH小体积晶振,1ZN326000AB0A通信设备晶振

2520mm体积的晶振,可以说是目前小型数码产品的福音,目前超小型的智能手机里面所应用的就是小型的石英晶振,该产品最适用于无线通讯系统,无线局域网,已实现低相位噪声,低电压,低消费电流和高稳定度,超小型,质量轻等产品特点,产品本身编带包装方式,可对应自动高速贴片机应用,以及高温回流焊接(产品无铅对应),为无铅产品.
希华晶振,贴片晶振,CTSX-3225晶振

希华晶振,贴片晶振,CTSX-3225晶振

频率:13MHZ-26MHZ 尺寸:3.2*2.5mm 希华晶振3225mm体积贴片晶振适用于汽车电子领域的表面贴片型石英晶振,本产品已被确定的高信赖性最适合用于汽车电子部件,晶体在极端严酷的环境条件下也能发挥稳定的起振特性,晶振本身具有耐热,耐振,耐冲击等优良的耐环境特性,满足无铅焊接的高温回流温度曲线要求,符合AEC-Q200标准.
NSK晶振,石英晶体谐振器,NXK-32晶振

NSK晶振,石英晶体谐振器,NXK-32晶振

频率:12.0~54.000MHz 尺寸:3.2*2.5mm 超小型表面贴片型SMD晶振,最适合使用在汽车电子领域中,也是特别要求高可靠性的引擎控制用CPU的时钟部分.低频晶振可从7.98MHz起对应,小型,超薄型具备强防焊裂性,石英晶体在极端严酷的环境条件下也能发挥稳定的起振特性,产品本身具有耐热,耐振,耐撞击等优良的耐环境特性,满足无铅焊接以及高温回流温度曲线要求,符合AEC-Q200标准.
KDS晶振,石英晶振,DSX321SL晶振

KDS晶振,石英晶振,DSX321SL晶振

频率:13~60MHz 尺寸:3.2*2.5mm 体积非常小的SMDcrystal器件,是民用小型无线数码产品的最佳选择,小体积的晶振被广泛应用到,手机蓝牙,GPS定位系统,无线通讯集,高精度和高频率的稳定性能,非常好的减少电磁干扰的影响,是民用无线数码产品最好的选择,符合RoHS/无铅.

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